Système Raman haute résolution

The University of British Columbia, Vancouver, Colombie-Britannique
Domaines d'expertise

Ce système Raman permet d’effectuer diverses analyses des matériaux : contrainte, composition chimique, cristallinité, température, etc. Ce système est unique : 1) il offre des résolutions spectrales et spatiales élevées, 2) il permet d’utiliser trois longueurs d’onde laser (325 nm, 442 nm et 633 nm), et 3) il est doté d’une platine chauffante qui rend possible a prise de mesures Raman sous traitement thermique in situ.

Que fait l'installation

Mesures Raman haute résolution pour l’analyse des matériaux

Services de recherche

Mesures Raman

Nom du laboratoire spécialisé 

Nom de l’équipement

Résumé de la fonction 

Laboratoire Raman de la Dre Xia

Spectromètre Raman LabRam HR

Fiche technique :

  • Résolution spectrale élevée : 0,3 cm-1/pixel à 442 nm,
  • 0,6 cm-1/pixel à 325 nm
  • Résolution après analyse de pic par ajustement : 0,03 cm-1 à 442 nm, 0,06 cm-1 à 325 nm
  • Résolution de mesure des contraintes sur silicium : 15 MPa
  • Résolution de mesure de la concentration en germanium : 0,05 %
  • Résolution spatiale élevée : diamètre de point laser inférieur au micromètre; fonctions de cartographie 2D
  • Longueur d’onde laser polarisée : 325 nm/442 nm/633 nm
  • Profondeur de pénétration : 5 nm, 0,24 μm et 3 μm dans le silicium (respectivement)
  • Capacité de la platine chauffante : jusqu’à 1 200 °C;  adaptée aux atmosphères gazeuses
  • Taux de chauffage : jusqu’à 200 °C/min